En este trabajo se explica la forma en que fueron sintetizadas y caracterizadas películas delgadas de Óxido de Grafeno, depositadas mediante la técnica de ablación láser. El Óxido de grafeno es un material que hace parte de la familia alotrópica del carbono. En la actualidad este material es de gran interés gracias a sus múltiples aplicaciones en campos tales como: la medicina, la electrónica, las energías renovables, entre otros. El interés por buscar nuevas y mejores técnicas de crecimiento de películas con los más diversos fines, ha llamado la atención de la comunidad internacional, lo cual se fundamenta en el proceso de descubrir las mejores condiciones de crecimiento y posibles aplicaciones. En este trabajo se crecieron películas delgadas de Óxido de Grafeno a partir de un blanco de grafito pirolítico, sin uso de catalizadores metálicos. Además, se estudió el cambio de las propiedades morfológicas, estructurales, ópticas y composición química de las películas delgadas depositadas sobre sustratos de silicio y vidrio.

Juan David López Vargas (Colombia) y Juan Pablo Cuenca Vargas (Colombia) son Ingenieros Físicos egresados de la Universidad Tecnológica de Pereira (Pereira-Risaralda). Ellos realizaron este trabajo de investigación, en el Grupo Plasma, Láser y Aplicaciones (GPLA) de la Universidad Tecnológica de Pereira a cargo del Ph.D Henry Riascos L.(Director).

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